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国内与国外存在较大差距主要在制造和设备,这是目前的瓶颈。台积电在2019年实现了5nm制程的量产,三星将于今年二季度实现5nm制程量产,国内的企业仍处落后,某芯片公司在2019年实现14nm制程的量产并计划在2020年底将产能推进到1.5万片/月。设备方面,光刻机、刻蚀机和薄膜沉积设备是芯片制造过程中的核心设备。目前高端光刻机被阿斯麦垄断,泛林半导体、应用材料和东京电子是主要的刻蚀和薄膜沉积设备生产商。国内厂商在刻蚀机方面取得了突破,某些企业的刻蚀机在已在多个存储厂商的生产线上验证成功并实现量产。半导体材料包括制造晶圆的材料硅片、光掩模、光刻胶、电子气体、溅射靶材等,目前国化率较低,尤其大硅片、光掩膜基本依赖进口。

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